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一种基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺的高线性混频器
引用本文:段昊阳,权海洋,王盟皓,魏慧婷,张秋艳,崔旭彤,侯训平,张超轩.一种基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺的高线性混频器[J].微电子学与计算机,2023(12):95-101.
作者姓名:段昊阳  权海洋  王盟皓  魏慧婷  张秋艳  崔旭彤  侯训平  张超轩
作者单位:北京微电子技术研究所
摘    要:设计了一种低本振驱动的高线性混频器,重点关注混频器的线性度性能和本振驱动功率问题.混频器的核心电路结构包含比较器,本振驱动器,双平衡无源混频器和带隙基准电路.为了提供本振信号通路的单端转差分功能,以及减小混频器对本振驱动功率的要求,引入比较器和本振驱动器,并采用双平衡无源混频器提供良好的线性度.采用0.18μm的SiGe双极兼容互补金属氧化物半导体(BiCMOS)工艺,同时支持上变频和下变频功能.实测结果表明,射频端口可覆盖6~18 GHz频段的信号,中频端口可覆盖0~6 GHz频段的信号;下变频时和上变频时的变频损耗典型值分别为-10.0 dB和-9.8 dB;IIP3在工作频段内的最大值分别为23.0 dBm和23.4 dBm;功耗为500 mW.在实现高线性度混频器的基础上,减小了输入本振功率的需求,提高了高线性混频器的实用性.

关 键 词:无源混频器  低本振驱动  高线性混频器  BiCMOS
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