| 镁合金表面Ti—TiN复合镀层的阴极多弧离子制备与表征 |
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| 引用本文： | 王成龙 范多旺 刘红忠 赵琳 卢萍 冷娜. 镁合金表面Ti—TiN复合镀层的阴极多弧离子制备与表征[J]. 功能材料, 2007, 38(A10): 4087-4089 |
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| 作者姓名： | 王成龙 范多旺 刘红忠 赵琳 卢萍 冷娜 |
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| 作者单位： | [1]兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,甘肃兰州730070 [2]兰州大成自动化工程有限公司,甘肃兰州730070 [3]西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,陕西西安710049 |
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| 基金项目： | 国家支撑计划资助项目（2006BAE04805-3）;国家高技术研究发展计划（863计划）资助项目（2006AA052411）;教育部长江学者与创新团队发展计划资助项目（IRT0629）;国家自然科学基金资助项目（50505037）致谢：感谢兰州交通大学“青蓝”人才工程计划的资助. |
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| 摘 要： | 表面强化、耐蚀处理对镁及其合金的应用至关重要。采用阴极多弧离子镀膜技术，在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了强结合力的以Ti为过渡层的TiN复合膜层，并利用高分辨扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）、CSM显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。结果表明，采用适当的多弧离子镀膜工艺，能在经恰当预处理方法处理的镁舍金基底上制备性能良好的TiN膜。膜层均匀、致密，膜基结合力达130mN以上，复合硬度达500HV左右（AZ91镁合金基底125HV）。此外中性盐雾强化实验表明，经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下，腐蚀速度明显降低，经过200h后，表面无明显腐蚀现象。真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用。
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| 关 键 词： | 镁合金 阴极多弧离子 TiN复合层 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-4087-03 |
| 修稿时间： | 2007-03-09 |
Preparation and characterization of Ti TiN films on AZ91C by cathode multi arc ion plating |
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| WANG Cheng-long, FAN Duo-wang, LIU Hong-zhong, ZHA Lin, LU Ping, LENG Na. Preparation and characterization of Ti TiN films on AZ91C by cathode multi arc ion plating[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(A10): 4087-4089 |
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| Authors: | WANG Cheng-long FAN Duo-wang LIU Hong-zhong ZHA Lin LU Ping LENG Na |
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| Affiliation: | WANG Cheng-long, FAN Duo-wang, LIU Hong-zhong, ZHA0 Lin, LU Ping, LENG Na |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnesium and alloys cathode multi are ion ilating TiN films |
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