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| 改善永磁铁氧体磁瓦表面磁密分布的方法探讨 | |
| 引用本文： | 谢瑞兵,张云程,王自敏,扬宇.改善永磁铁氧体磁瓦表面磁密分布的方法探讨[J].磁性材料及器件,2009,40(5):64-66,69. |
| 作者姓名： | 谢瑞兵 张云程 王自敏 扬宇 |
| 作者单位： | 宜宾职业技术学院,四川宜宾,644001 |
| 摘 要： | 通过国内样品与日本样品的比较测量,找出了磁瓦表面磁密分布的差异;磁瓦表面磁密分布差异取决于取向度分布差异和密度分布差异,通过磁瓦制备工艺的分析,同时借鉴日本磁瓦生产工艺,改进磁瓦取向磁场的磁路结构、磁瓦压制工艺和磨加工工艺等,改善了永磁铁氧体磁瓦表面的磁密分布. |
| 关 键 词： | 永磁铁氧体磁瓦 表面磁密 影响因素 |
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