| 退火工艺对低压铝箔氧化膜和比电容的影响 |
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| 引用本文： | 吕亚平,毛卫民,何业东,杨宏.退火工艺对低压铝箔氧化膜和比电容的影响[J].材料热处理学报,2007,28(5):78-81. |
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| 作者姓名： | 吕亚平 毛卫民 何业东 杨宏 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料学院,北京,100083;北京科技大学材料学院,北京,100083;北京科技大学新金属材料国家重点实验室,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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高等学校博士学科点专项科研项目 |
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| 摘 要： | 纯度99.988%的铝箔在300,400和500℃分别进行0.5,1和2h真空退火,然后利用电容法,间接测出退火箔的氧化膜厚度.用扫描电子显微镜观察部分退火箔的腐蚀形貌,测出相应的比电容.结果表明,在400℃退火时,铝箔的氧化膜厚度最小,300℃居中,500℃最大.在300℃退火时,随着保温时间的延长,铝箔的氧化膜厚度减小;而在400℃和500℃退火时,氧化膜厚度增大.500℃退火的铝箔,表面微量元素的分布接近于平衡状态,分布较均匀,铝箔表面腐蚀孔坑较细小,蚀坑密度大,比电容较高.而低温退火的箔样,微量元素偏聚在铝箔表面的位错露头附近,使铝箔表面出现大量的腐蚀孔坑,降低了比电容.
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| 关 键 词： | 铝箔 氧化膜 腐蚀 扩散 |
| 文章编号： | 1009-6264（2007）05-0078-04 |
| 修稿时间： | 2006-09-20 |
Effect of annealing technology on oxide film and specific capacity of aluminum foils for low voltage electrolytic capacitors |
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| L Ya-ping,MAO Wei-min,HE Ye-dong,YANG Hong.Effect of annealing technology on oxide film and specific capacity of aluminum foils for low voltage electrolytic capacitors[J].Transactions of Materials and Heat Treatment,2007,28(5):78-81. |
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| Authors: | L Ya-ping MAO Wei-min HE Ye-dong YANG Hong |
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| Affiliation: | 1. Department of Materials, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China; 2. State Key Laboratory for Advanced Metals and Materials, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | aluminum foil oxide film corrosion diffusion |
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