极低损耗单模光纤的制造工艺

在用MCVD法制造超低损耗单模光纤的工艺中,我们研究了下列两种类型的玻璃材料,即(1)SiO_2包层,GeO_2-SiO_2纤芯;(2)P_2O_s-F-GeO_2-SiO_2包层,P_2O_s-GeO_2-SiO_2纤芯。实验结果,关于(1)我们使用了石英管外径自动控制器能在1.30微米和1.55微米下制备低损耗单模光纤。然后,关于(2),我们精密控制了光纤包层的掺杂气体SF_6或CF_4的气流率和纤芯折射率分布,在1.30微米～1.60微米下得到了低损耗单模光纤。