| 纳米喷洒预处理在MWCVD金刚石膜中的应用 |
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| 引用本文： | 石玉龙.纳米喷洒预处理在MWCVD金刚石膜中的应用[J].新技术新工艺,2003(1):46-48. |
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| 作者姓名： | 石玉龙 |
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| 作者单位： | 青岛科技大学材料与环境科学学院,266042 |
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| 基金项目： | 山东自然科学基金资助课题 Y2 0 0 1F10 |
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| 摘 要： | 叙述了应用于微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜工艺中一种新的基体预处理方法，即对Si(100）基体采用纳米金刚石直接喷洒处理方法，与此同时还采用了其他方法，如超声波法处理，研磨法处理和基体不处理，通过SEM观察分析了各种处理方法对金刚石成膜的影响，实验可知，纳米金刚石直接喷洒是一种较好的基体预处理方法，在此方法处理的基体以上可以生长出金刚石／碳化硅复合膜。
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| 关 键 词： | 微波等离子化学气相沉积 金刚石膜 纳米金刚石粉喷洒预处理 |
Application of MWCVD Diamond Film on the Substrate Sprayed Powder Pretreatment with Nano-diamond |
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