| 一种可实用的照明曝光系统 |
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| 引用本文： | 段立安.一种可实用的照明曝光系统[J].电子工业专用设备,2004,33(2):19-24. |
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| 作者姓名： | 段立安 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,东燕郊,101601 |
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| 摘 要： | 以作者多年的工作体会为基础熏结合几种照明曝光系统的情况熏介绍了提高光刻机的照明均匀性和单位面积能量的一些具体措施。并以光学均匀器为例熏做出一种可实用的照明曝光系统。
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| 关 键 词： | 照明均匀性 单位面积能量 光学均匀器 |
| 文章编号： | 1004-4507(2004)02-0019-06 |
| 修稿时间： | 2003年11月5日 |
An Available Illumination Exposure System |
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| DUAN Li-an.An Available Illumination Exposure System[J].Equipment for Electronic Products Marufacturing,2004,33(2):19-24. |
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| Authors: | DUAN Li-an |
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| Abstract: | On the basis of the anthor's many-year working experience,combiniy with several illumination exposre systems,introduces some concrete measures for the illumination uniformity and exposure dose per unit area of exposure stepper to be enhanced.And also taking optical uniformization unit for example,made an available illumination exposure system. |
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| Keywords: | Illumination uniformity Exposure dose per unit area Optical uniformization unit |
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