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| 光刻机曝光光学中的概念辨析 | |
| 引用本文： | 严利人.光刻机曝光光学中的概念辨析[J].微细加工技术,2003(2):29-33. |
| 作者姓名： | 严利人 |
| 作者单位： | 清华大学微电子研究所，北京 100084 |
| 摘 要： | 归纳解释了光刻机曝光光学中的若干重要概念，例如分辨率、焦深等，详细地阐述了光刻机曝光的原理。考虑到类似概念在不同系统中的含义差别，进行了针对性的辨析。从物理光学层次了解和掌握光刻机曝光的机理。 |
| 关 键 词： | 光刻机 曝光 分辨率 焦深 概念 原理 |
| 文章编号： | 1003-8213(2003)02-0029-05 |
| 修稿时间： | 2003年1月16日 |
Discussion on Some Important Illumination and Projection Concepts in Stepper |
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| Abstract: | |
| Keywords: | stepper lithography resolution depth of focus |
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