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| 掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜的光学非线性特性 | |
| 作者姓名： | 郭亨群 杨琳琳 王启明 |
| 作者单位： | 1. 华侨大学信息科学与工程学院,泉州,362011 2. 中国科学院半导体研究所,北京,100083 |
| 摘 要： | 采用时间分辨四波混频方法,用钛宝石飞秒激光器测量了掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜的光学非线性特性.得到薄膜非共振三阶非线性极化系数为1.0×10-10esu,弛豫时间为60fs.分析认为薄膜的光学非线性增强来源于SiO2镶嵌的纳米Si中电子的量子限制效应,而不是来源于Al杂质,这是因为Al易被氧化,薄膜中没有形成Al团簇. |
| 关 键 词： | 纳米Si 复合薄膜 三阶非线性 时间分辨四波混频 |
| 收稿时间： | 2015-08-18 |
| 修稿时间： | 2007-03-06 |
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