| 纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法 |
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| 引用本文： | 张亚军,段玉刚,卢秉恒,王权岱. 纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法[J]. 微细加工技术, 2005, 0(2): 34-38 |
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| 作者姓名： | 张亚军 段玉刚 卢秉恒 王权岱 |
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| 作者单位： | 西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50305026)，国家863计划资助项目(2003AA404040) |
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| 摘 要： | 概述了纳米压印光刻的原理，以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响，分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点，并对其优缺点进行了评价。
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| 关 键 词： | 压印光刻 柔性铰链 工作台 |
| 文章编号： | 1003-8213(2005)02-0034-05 |
| 修稿时间： | 2004-12-28 |
Parallel Adjustment Methods between Template and Substrate in Nano Imprint Lithography |
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| ZHANG Ya-jun,DUAN Yu-gang,LU Bing-heng,WANG Quan-dai. Parallel Adjustment Methods between Template and Substrate in Nano Imprint Lithography[J]. Microfabrication Technology, 2005, 0(2): 34-38 |
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| Authors: | ZHANG Ya-jun DUAN Yu-gang LU Bing-heng WANG Quan-dai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | imprint lithography flexure hinge stage |
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