| 测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法 |
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| 引用本文： | 陈希明,马靖,徐晟,吴小国,孙大智,杨保和.测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法[J].光电子．激光,2005,16(4):466-469. |
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| 作者姓名： | 陈希明 马靖 徐晟 吴小国 孙大智 杨保和 |
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| 作者单位： | 天津理工大学光电系,天津,300191;天津理工大学光电系,天津,300191;天津理工大学光电系,天津,300191;天津理工大学光电系,天津,300191;天津理工大学光电系,天津,300191;天津理工大学光电系,天津,300191 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(60276001)，天津自然科学基金资助项目(023601711、033700611) |
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| 摘 要： | 提出一种基于平行板电容测微原理进行多层膜材料的测厚方法。该方法用有效电极直径西3mm电容传感头，通过变化空气隙△h进行多次测量，对输出电压V值进行线性拟合，得到空气隙与测量电压的关系，计算出被测厚度，测量精度达0．01μm。若采用有效电极直径西1mm传感头，测量精度可达0．001μm。通过理论分析和实验证实，该方法不需对被测材料提前标定相对介电常数，不需特殊制备样件，是非接触测量，测量方法简单、成本低。因此适用于各种薄膜、特别是多层结构膜的无损膜厚测量及平面度测量。
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| 关 键 词： | 多层薄膜结构 无损厚度测量 电容测微 |
| 文章编号： | 1005-0086(2005)04-0466-04 |
A Novel Method for Measuring Film Thickness in Layered Structure |
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| CHEN Xi-ming,MA Jing,XU Sheng,WU Xiao-guo,SUN Da-zhi,YANG Bao-he.A Novel Method for Measuring Film Thickness in Layered Structure[J].Journal of Optoelectronics·laser,2005,16(4):466-469. |
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| Authors: | CHEN Xi-ming MA Jing XU Sheng WU Xiao-guo SUN Da-zhi YANG Bao-he |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | multilayered structure films non-destructive thickness measurement capacitance measurement |
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