| 受阻胺光稳定剂770的合成与应用研究 |
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| 作者姓名： | 李坤泉 柴生勇 李积德 李岩 陈林 刘勤 刘振峰 汪廷洪 |
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| 作者单位： | 金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663;金发科技股份有限公司,广东广州,510663 |
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| 摘 要： | 采用不同的原料和工艺方法合成了受阻胺光稳定剂770 ZZ,研究了催化剂种类、溶剂种类以及原料配比等对转化率的影响,并采用傅里叶红外光谱(FTIR)、热重分析仪(TGA)、差示扫描量热仪(DSC)和核磁氢谱(~1H-NMR)对产物进行了表征,最后将其应用于制备耐候ABS。确定了光稳定剂770 ZZ的合成工艺条件,FTIR和~1H-NMR表明获得了目标产物。TGA和DSC分析显示,通过后处理工艺可以有效去除产品中的催化剂等杂质,提高产品的纯度,能有效提高ABS的抗紫外性能。
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| 关 键 词： | 受阻胺 770 光稳定剂 耐候 ABS |
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