首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究
引用本文:王贵梅,许志卫,靳迎松,朱少杰,王少丽.管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究[J].太阳能,2022(1).
作者姓名:王贵梅  许志卫  靳迎松  朱少杰  王少丽
作者单位:晶澳太阳能有限公司
摘    要:本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片正面镀膜时增加SiOxNy膜层,既可以增强正面的钝化效果,还可以降低对光的反射率,增加光吸收率,从而提升太阳电池的短波响应能力,通过对膜层组分和反应气体流量等工艺参数进行匹配优化,使太阳电池的光电转换效率提升了0.07%;利用SiyNx/SiOxNy叠层膜抗氧化、抗钠离子的特性,使太阳电池的抗电势诱导衰减(PID)性能提升了22%。

关 键 词:管式PECVD  氮氧化硅薄膜  氮化硅薄膜  SiyNx/SiOxNy叠层膜  太阳电池  短波响应  抗PID性能

STUDY ON SiyNx/SiOxNyLAMINATED FILM DESPOSITED BY TUBULAR PECVD METHOD
Wang Guimei,Xu Zhiwei,Jin Yingsong,Zhu Shaojie,Wang Shaoli.STUDY ON SiyNx/SiOxNyLAMINATED FILM DESPOSITED BY TUBULAR PECVD METHOD[J].Solar Energy,2022(1).
Authors:Wang Guimei  Xu Zhiwei  Jin Yingsong  Zhu Shaojie  Wang Shaoli
Affiliation:(JASolar Co.,Ltd.,Xingtai 055550,China)
Abstract:
Keywords:tubular PECVD  SiOxNyfilm  SiyNxfilm  SiyNx/SiOxNylaminated film  solar cells  short wave response  anti-PID performance
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号