| 矩形平面磁控溅射阴极的磁场模拟及结构设计 |
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| 引用本文： | 陈长琦,郭江涛,方应翠,张建国.矩形平面磁控溅射阴极的磁场模拟及结构设计[J].真空,2008,45(3):65-69. |
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| 作者姓名： | 陈长琦 郭江涛 方应翠 张建国 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学机械与汽车工程学院真空应用技术工程中心,安徽,合肥,230009 |
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| 摘 要： | 文章模拟分析了结构参数对磁控溅射阴极磁场分布的影响,设计了一种新型的矩形平面磁控溅射阴极,并对设计的阴极磁场进行模拟分析,结果表明有效提高了靶材表面磁场分布的均匀性.采用在阳极框内侧安装高磁导率的导磁板的方法,改变了阴极体和阳极框之间缝隙的磁场分布,解决了缝隙处的连续放电现象.本研究为磁控溅射阴极的设计提供了依据.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 结构设计 磁场分布 缝隙放电 矩形 平面磁控溅射 阴极 磁场模拟 结构设计 magnetron sputtering cathode target plane structural design magnetic field 研究 放电现象 连续 间缝 方法 磁板 高磁导率 安装 内侧 |
| 文章编号： | 1002-0322(2008)03-0065-05 |
| 修稿时间： | 2007年12月11 |
Simulation of magnetic field and structural design of rectangularly plane target cathode for magnetron sputtering |
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| CHEN Chang-qi,GUO Jiang-tao,FANG Ying-cui,ZHANG Jian-guo.Simulation of magnetic field and structural design of rectangularly plane target cathode for magnetron sputtering[J].Vacuum,2008,45(3):65-69. |
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| Authors: | CHEN Chang-qi GUO Jiang-tao FANG Ying-cui ZHANG Jian-guo |
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