| 使用Pb1—xGexTe材料提高红外膜光学器件温度稳定性 |
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| 引用本文： | 李斌,范斌,等.使用Pb1—xGexTe材料提高红外膜光学器件温度稳定性[J].光学仪器,2001,23(5):174-178. |
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| 作者姓名： | 李斌 范斌 等 |
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| 作者单位： | 李斌（中国科学院上海技术物理研究所上海200083）;范斌（中国科学院上海技术物理研究所上海200083）;张素英（中国科学院上海技术物理研究所上海200083）;张凤山（中国科学院上海技术物理研究所上海200083） |
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| 摘 要： | 提高薄膜光学器件温度稳定性的一条途径是根据光学薄膜器件的稳定性理论,选择两种具有相反折射率温度系数的材料组成膜系,使材料随温度变化引起的位相变化相互抵消.但很难找到折射率温度系数可以完全相互抵消的两种材料,因此有必要找到一种折射率温度系数可以调节的材料.研究表明红外长波材料Pb1-xGexTe的折射率温度系数可以随Ge组分x的改变而改变.研究结果证明使用Pb1-xGexTe材料,薄膜光学器件温度稳定性得到了很大的提高.
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| 关 键 词： | 薄膜光学器件 温度稳定性 Pb |
| 文章编号： | 1005-5630(2001)5/6-0174-05 |
| 修稿时间： | 2001年8月30日 |
by
using Pb1-xGexTe |
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