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| 东芝采用新的电子束扫描技术制成0.25μm图形 | |
| 引用本文： | 肖洪.东芝采用新的电子束扫描技术制成0.25μm图形[J].微纳电子技术,1985(5). |
| 作者姓名： | 肖洪 |
| 摘 要： | <正> 东芝采用在整个片子上先进行弱的曝光,然后再进行电子束扫描的方法,研制了形成0.25μm微细图形的技术,该技术使接近效应大幅度降低,能形成高精度的图形。他们认为该技术甚至可以在64M位存贮器中应用。他们先用高电压电子束对片子预先进行弱的、均匀的曝光,然后照射电子束使描绘出实际图形。在这个方法中,由于接近效应而产生的显影时间的差比过去的电子束照射法要小得 |
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