| 低温纳米压印技术制备微纳图案的研究 |
| |
| 引用本文： | 孙洪文,刘景全,陈迪. 低温纳米压印技术制备微纳图案的研究[J]. 电子工艺技术, 2008, 29(6) |
| |
| 作者姓名： | 孙洪文 刘景全 陈迪 |
| |
| 作者单位： | 河海大学,江苏,常州,213022;上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室,上海,200030 |
| |
| 基金项目： | 国家863高新技术项目863MEMS重大专项(项目编号:2002AA404150).上海市科委上海市科委项目 |
| |
| 摘 要： | 纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图案.采用低玻璃化温度的SU-82000.1和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现微纳图案的转移.采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案,从而避免了传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤;并且采用FIB方法可同时在衬底上制备微米、纳米尺度的图案.实验结果表明用FIB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印章,经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制.
|
| 关 键 词： | 纳米压印 低温 聚焦离子束 纳米印章 微纳图案 图案复制 |
Research on Micro/nanopattern Fabrication based on Nanoimprint Lithography at Low Temperature |
| |
| SUN Hong-wen,LIU Jing-quan,CHEN Di. Research on Micro/nanopattern Fabrication based on Nanoimprint Lithography at Low Temperature[J]. Electronics Process Technology, 2008, 29(6) |
| |
| Authors: | SUN Hong-wen LIU Jing-quan CHEN Di |
| |
| Affiliation: | SUN Hong-wen1,LIU Jing-quan2,CHEN Di2(1.Hehai University,Changzhou 213022,China,2.Shanghai Jiaotong University,Shanghai 200030,China) |
| |
| Abstract: | Nanoimprint replicates patterns by using a stamp to imprint polymer when the polymer heated beyond its glass transistion temperature(Tg).Novel polymers SU-8 2000.1 and Hybrane were employed to transfer patterns.They can be used to replicate pattterns at low temperature,even with room temperature.At the same time,new imprint stamp fabrication mehod using focused ion beam(FIB) to directly etch substrate was researched.It replaced the traditional e-beam method and cancelled the RIE step.Another advantage is th... |
| |
| Keywords: | Nanoimprint Low temperature Focused ion beam Nano stamps Micro/nano patterns Pattern replication |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
