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| 世界最新的抗蚀剂 | |
| 引用本文： | 吴秀丽.世界最新的抗蚀剂[J].光机电信息,1999(9). |
| 作者姓名： | 吴秀丽 |
| 摘 要： | 日本东京应化工业开发了在不改变半导体批量生长线正在使用的i线步进器,最小线宽0.35μm工艺情况下,用原有的设备达到0.25μm以下工艺处理的超高分辨率阳性型光抗蚀剂“TSOR”。在i线步进器上可分辨 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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