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非晶碳/Mo2C混合膜的场发射特性
引用本文:王朝勇,姚宁,张兵临,鲁占灵,方莉俐,邓记才,张新月,赵永梅,袁泽明.非晶碳/Mo2C混合膜的场发射特性[J].功能材料,2005,2(Z1):46-47.
作者姓名:王朝勇  姚宁  张兵临  鲁占灵  方莉俐  邓记才  张新月  赵永梅  袁泽明
作者单位:郑州大学,材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052
基金项目:教育部科学技术重点资助项目(205091)
摘    要:以镀有Mo过渡层的A12O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2.在高真空室中测量了样品场发射特性.开启场强为0.55V/μm,在1.8V/μm电场下样品的发射电流密度为6.8mA/cm2.发射点点密度>103/cm2.用SEM观察了表面形貌,Raman和XRD谱分析了薄膜的微观结构和成分.实验结果表明该薄膜是一种好的场致电子发射体.

关 键 词:场发射  微波等离子体化学气相沉积  非晶碳  Mo2C
修稿时间:2005年5月30日

Field emission characters of compound film of amorphous carbon and Mo2C
WANG Zhao-yong,YAO Ning,ZHANG Bing-lin,LU Zhan-ling,FANG Li-li,DENG Ji-cai,ZHANG Xin-yue,ZHAO Yong-mei,YUAN Ze-ming.Field emission characters of compound film of amorphous carbon and Mo2C[J].Journal of Functional Materials,2005,2(Z1):46-47.
Authors:WANG Zhao-yong  YAO Ning  ZHANG Bing-lin  LU Zhan-ling  FANG Li-li  DENG Ji-cai  ZHANG Xin-yue  ZHAO Yong-mei  YUAN Ze-ming
Abstract:
Keywords:
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