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A "molecular eraser" for dip-pen nanolithography
Authors:Jang Jae-Won  Maspoch Daniel  Fujigaya Tsuyohiko  Mirkin Chad A
Affiliation:The Department of Chemistry and International Institute for Nanotechnology, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, IL 60208-3113, USA.
Abstract:
Keywords:alkanethiols  atomic force microscopy  dip‐pen nanolithography  self‐assembled monolayers
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