电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究 |
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引用本文: | 陈荣发. 电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究[J]. 真空, 2003, 0(2): 11-15 |
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作者姓名: | 陈荣发 |
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作者单位: | 扬州大学机械工程学院,江苏,扬州,225009 |
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摘 要: | 通过对半导体器件电极制备的两种方法即电子束蒸发与磁控溅射镀铝的比较,详细分析了两种方法的膜厚控制、附着力,致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发。
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关 键 词: | 电子束蒸发 磁控溅射 铝膜 性能分析 |
文章编号: | 1002-0322(2003)02-0011-05 |
修稿时间: | 2002-12-24 |
Analysis and study on the capability of aluminium films prepared by electron beam vapour deposition and magnetron sputtering |
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Abstract: | |
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Keywords: | electron beam vapour deposition magnetron sputtering aluminium films capability analysis |
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