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杂志ISSN号
非线性光学晶体专利技术综述
作者姓名:
周琼
作者单位:
国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心化学发明审查部
摘 要:
光电子技术将是21世纪的核心技术之一。对于光电子技术的发展,非线性光学晶体是不可缺少的关键材料。我国围绕非线性光学晶体技术申请了大量专利。本文通过对专利申请量、重要申请人、技术构成、重要技术进行统计,分析了非线性光学晶体专利技术在国内的基本态势。
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