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| 光致抗蚀剂材料的研制动态 | |
| 引用本文： | 吕洪久.光致抗蚀剂材料的研制动态[J].化工新型材料,1980(5). |
| 作者姓名： | 吕洪久 |
| 摘 要： | 制造集成电路和大规模集成电路的工艺方法,就是把光致抗蚀剂涂敷在基片上,在它的上面按照图形照射以紫外光,然后显影成象。这就是所谓的光刻技术。近几年来,集成电路的容量越来越大。密集程度也越来越高,在一个集成电路片芯(chip)内的元件数每年以1.5～2倍的比例增加,而图形尺寸则以每年10～ |
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