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| 高速发展的光学光刻技术 | |
| 引用本文： | 张世恩,童志义.高速发展的光学光刻技术[J].电子工业专用设备,1992,21(4):7-18,6. |
| 作者姓名： | 张世恩 童志义 |
| 作者单位： | 机电部第四十五所 (张世恩)，机电部第四十五所(童志义) |
| 摘 要： | 光学光刻设备日益精进,相关技术不断革新,使光学曝光技术继续主宰九十年代的光刻设备市场。新颖的光学光刻设备仍将在进入本世纪末0.15微米1GDRAM极大规模时代扮演主要角色。本文将对光学微细技术不同发展阶段的主要技术进步和设备概况作以介绍,并对光学光刻设备的市场和今后的发展趋势作了分析。 |
| 关 键 词： | 光学光刻 片子步进机 i线光刻 准分子光刻 远紫外步进扫描光刻 移相曝光 激光直写 |
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