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基于RSM和均匀试验的IC成品率设计方法
引用本文:荆明娥,周电,马晓华,马佩军,郝跃. 基于RSM和均匀试验的IC成品率设计方法[J]. 电路与系统学报, 2005, 10(3): 89-92
作者姓名:荆明娥  周电  马晓华  马佩军  郝跃
作者单位:1. 复旦大学,专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,200433;西安电子科技大学,微电子研究所,陕西,西安,710071
2. 复旦大学,专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,200433
3. 西安电子科技大学,微电子研究所,陕西,西安,710071
基金项目:国家863VLSI重大专项支持研究(2003AA121630)
摘    要:本文给出了一种基于均匀试验设计的响应表面模型,同时得到该模型在VLSI集成电路参数成品率中的优化方法。本方法首先对电路的关键参数进行扫描,确定满足电路基本性能时的参数变化范围。在此范围内,可对电路参数进行以数论方法为基础的均匀试验设计和建立响应表面。对拟合得到的响应表面模型进行CV拟合检验,求出最佳的电路设汁值。本方法适用于集成电路的工艺、器件和电路级的模拟。

关 键 词:均匀试验设计 响应表面方法(RSM) 参数成品率 统计和优化
文章编号:1007-0249(2005)03-0089-04
修稿时间:2003-07-28

Parametric yield optimization based on RSM and uniform experiment design
Jing Ming-e,ZHOU Dian,MA Xiao-hua,Ma Pei-jun,HAO Yue. Parametric yield optimization based on RSM and uniform experiment design[J]. Journal of Circuits and Systems, 2005, 10(3): 89-92
Authors:Jing Ming-e  ZHOU Dian  MA Xiao-hua  Ma Pei-jun  HAO Yue
Abstract:
Keywords:uniform experiment design  response surface model  parametric yield  statistical and optimization
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