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基于结构函数的功率VDMOS器件热特性分析
引用本文:董晨曦,王立新. 基于结构函数的功率VDMOS器件热特性分析[J]. 微电子学, 2013, 43(5)
作者姓名:董晨曦  王立新
作者单位:中国科学院微电子研究所,北京,100029
摘    要:基于结构函数理论,运用改进电学测试法,对同一器件管壳与基板间的不同界面进行研究,发现其积分结构函数曲线发生了分离;通过该分离点确定器件稳态结壳热阻值,获得了器件内部各结构层的热阻分布.比较测试结果与理论值,两者基本一致.该测试方法简单、方便,比传统热阻测试法准确且重复性好.对比了采用不同封装工艺的器件的微分结构函数,观察发现,其峰值位置发生了偏移;进一步的超声波扫描证实了偏移的原因是存在焊料层空洞,提出了相应的改善措施.研究表明,利用结构函数理论分析功率VDMOS器件热特性是一种准确而可靠的方法.

关 键 词:结构函数  功率器件  热阻  焊料层

Analysis of Thermal Characteristics of Power VDMOS Based on Structural Functions
DONG Chenxi,WANG Lixin. Analysis of Thermal Characteristics of Power VDMOS Based on Structural Functions[J]. Microelectronics, 2013, 43(5)
Authors:DONG Chenxi  WANG Lixin
Abstract:
Keywords:Structural function  Power device  Thermal resistance  Solder layer
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