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硅灰-氮化硅体系材料高温反应的研究
引用本文:陈俊红,王福明,刘瑞斌,孙加林.硅灰-氮化硅体系材料高温反应的研究[J].耐火材料,2007,41(6):427-429.
作者姓名:陈俊红  王福明  刘瑞斌  孙加林
作者单位:1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
2. 北京科技大学生态冶金与工程学院
3. 济南钢铁集团总公司技术中心
摘    要:将硅灰(w(SiO2)=94.5%,平均粒度0.08μm)和氮化硅(粒度≤0.074mm)按1:1质量比混合后成型,在空气中埋炭条件下分别经1300℃、1450℃、1500℃、1550℃、1600℃处理3h后水冷,对其显微结构及物相进行了分析。结果表明:在1550℃以上,以硅灰和氮化硅为原料反应生成Si2N2O比较明显,氮化硅颗粒的边角变得圆滑,而且分布在含Si2N2O的连续胶结相中,形成胶结相包裹Si3N4的致密结构;1500℃以下,氮化硅仍然棱角分明,基本上未形成Si2N2O,只是硅灰中的SiO2析晶,析晶比较显著的温度为1300℃。

关 键 词:硅灰  氮化硅  氧氮化硅
修稿时间:2007年3月30日

High-temperature reaction of silica fume-Si3N4 system
Chen Junhong,Wang Fuming,Liu Ruibin,et al School of Materials Science and Engineering,University of Science and Technology Beijing,Beijing ,China.High-temperature reaction of silica fume-Si3N4 system[J].Refractories,2007,41(6):427-429.
Authors:Chen Junhong  Wang Fuming  Liu Ruibin  School of Materials Science and Engineering  University of Science and Technology Beijing  Beijing  China
Affiliation:Chen Junhong,Wang Fuming,Liu Ruibin,et al School of Materials Science and Engineering,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China
Abstract:
Keywords:Silica fume  Silicon nitride  Silicon oxynitride
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