| 用Monte-Carlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布 |
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| 引用本文： | 黄士勇,曲风钦,苗晔. 用Monte-Carlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布[J]. 真空电子技术, 1999, 0(5): 38-42 |
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| 作者姓名： | 黄士勇 曲风钦 苗晔 |
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| 作者单位： | (烟台大学物理系，烟台 山东 264005) |
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| 摘 要： | 在大型薄膜生产设备中，膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用Ｍｏｎｔｅ－Ｃａｒｌｏ方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法，计算了靶的几何结构及各种溅射参数对膜厚横向分布的影响，并把计算结果与实际测量进行了比较。
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| 关 键 词： | 膜厚分布 磁控溅射器 Monte－Carlo法 薄膜 |
| 修稿时间： | 1998-08-12 |
Monte Carlo Simulation ofThe Distribution of thin FilmThickness of Large-Size Magnetron Sputtering Device |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Distribution of thin film thickness Monte Carlo method Targetlength Total-pressure |
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