| 时间依赖性雾(TDH)的产生机理及其消除方法 |
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| 引用本文： | 赵丽霞,陈秉克,张鹤鸣. 时间依赖性雾(TDH)的产生机理及其消除方法[J]. 半导体技术, 2009, 34(7). DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.07.13 |
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| 作者姓名： | 赵丽霞 陈秉克 张鹤鸣 |
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| 作者单位： | 河北普兴电子科技股份有限公司,石家庄,050200;西安电子科技大学,微电子学院,西安,710071;河北普兴电子科技股份有限公司,石家庄,050200;西安电子科技大学,微电子学院,西安,710071 |
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| 摘 要： | 阐述了Si片表面时间依赖性雾的形成过程、分布、形状、密度及识别和去除的方法.通过同样流程清洗、不同条件干燥处理的Si片在不同湿度条件下储存的实验,指出了时间依赖性雾是H与掺杂原子的联合体以及雾是Si片表面与H2O或O2反应生成SiO2颗粒两种解释的不准确性.提出了时间依赖性雾是含有离子或有机物沾污的水汽在Si表面浓缩而形成的光散射.在总结和比对分析实验结果的基础上,得到了控制时间依赖性雾的生成、延长Si片存储时间的有效方法.
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| 关 键 词： | 时间依赖性雾(TDH) 酸根离子 碱根离子 颗粒 光散射 |
Formation Mechanism and Control of Time-Dependent Haze |
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| Zhao Lixia,Chen Bingke,Zhang Heming. Formation Mechanism and Control of Time-Dependent Haze[J]. Semiconductor Technology, 2009, 34(7). DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.07.13 |
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| Authors: | Zhao Lixia Chen Bingke Zhang Heming |
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