| 脉冲准分子激光沉积纳米WO3多晶电致变色薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 方国家,刘祖黎,周远明,姚凯伦. 脉冲准分子激光沉积纳米WO3多晶电致变色薄膜的研究[J]. 硅酸盐学报, 2001, 29(6): 559-564 |
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| 作者姓名： | 方国家 刘祖黎 周远明 姚凯伦 |
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| 作者单位： | 1. 华中科技大学物理系,
2. 襄樊学院信息功能材料研究室, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(19775016)及湖北省自然科学基金资助项目(99J049) |
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| 摘 要： | 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在不同条件下,在透明导电衬底SnO2:In2O3(ITO）及Si (111)单晶衬底上沉积了非晶WOx薄膜,采用X射线衍射（XRD）、Raman光谱（RS）、Fourier红外光谱（FT－IR）及透射电镜扫描附件（STEM）对在不同条件下沉积及不同温度退火处理的样品进行了结构分析,结果表明：氧气氛和衬底温度是决定薄膜结构和成分的主要参数,采用三斜相的WO3靶材,在100℃及20Pa氧压下沉积,经300℃以上退火处理,在Si（111）及ITO衬底上得到了三斜相的纳米晶WO3薄膜,随着氧压的减少,薄膜中氧缺位增多,采用ITO基片,氧20Pa,经300℃热处理的薄膜,呈多晶态,晶粒分布均匀,晶粒平均尺寸为20－30nm,经400℃热处理的薄膜,呈多晶态,晶界明显,晶粒分布呈开放型多孔结构,晶粒平均尺寸30－50nm,这一典型的结构有利于离子的注入和抽出。
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| 关 键 词： | 三氧化钨薄膜 脉冲准分子激光沉积 工艺条件 结构分析 纳米晶体 电致变色薄膜 |
| 文章编号： | 0454-5648(2001)06-0559-06 |
| 修稿时间： | 2000-12-20 |
STUDIES ON THE SYNTHESES OF ELECIROCHROMIC NANO-CRYSTALLINE WO3 THIN FILMS BY PULSED EXCIMER LASER DEPOSITION |
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| Fang Guojia ,,Liu Zuli ,Zhou Yuanming ,Yao Kailun ,. STUDIES ON THE SYNTHESES OF ELECIROCHROMIC NANO-CRYSTALLINE WO3 THIN FILMS BY PULSED EXCIMER LASER DEPOSITION[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2001, 29(6): 559-564 |
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| Authors: | Fang Guojia Liu Zuli Zhou Yuanming Yao Kailun |
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| Affiliation: | Fang Guojia 1,2,Liu Zuli 3,Zhou Yuanming 2,Yao Kailun 1,3,4 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | tungsten oxide thin films nano_crystalline pulsed excimer laser deposition preparation conditions structural analyses |
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