| 非晶态Ni-W合金镀层电沉积影响因素和特性的研究 |
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| 引用本文： | 杨文,王晓东.非晶态Ni-W合金镀层电沉积影响因素和特性的研究[J].腐蚀科学与防护技术,1998,10(3):37-40. |
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| 作者姓名： | 杨文 王晓东 |
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| 作者单位： | 上海钢铁研究所腐蚀与防护研究室(杨文)，华东理工大学华昌聚合物公司(王晓东) |
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| 摘 要： | 研究了络合剂加量、镀液pH、温度等因素对非晶态Ni-W合金镀层电沉积的影响.同时对非晶态镀层结构、结合力和耐蚀性也作了探讨.结果表明:各因素对电沉积都有不同程度的影响,其中氨基络合物加量为0.74～1.11mol/L时,合金镀层稳定,W含量大于44%的合金镀层为非晶态.有优异的耐蚀性,并且在不同材质上具有良好的结合力.
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| 关 键 词： | Ni-W合金 电沉积法 |
| 收稿时间： | 1998-05-25 |
| 修稿时间： | 1998-05-25 |
AMORPHOUS Ni W ALLOY COATING BY ELECTRO DEPOSIT AND ITS CHARACTERISTICS |
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| Abstract: | Effects of addition amount of complexing agent,pH value of plating solution and temperature on electro deposit of Ni W alloy were studied. The influence on the adhasive force between the matrix and the coating of amorphous Ni W alloy, and corrosion resist |
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| Keywords: | coating of Ni W alloy electro deposit character of coating |
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