宽禁带半导体技术 |
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引用本文: | 李耐和. 宽禁带半导体技术[J]. 电子产品世界, 2005, 0(18): 88-92 |
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作者姓名: | 李耐和 |
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摘 要: | 概述 根据半导体材料禁带宽度的不同,可分为宽禁带半导体材料与窄禁带半导体材料.若禁带宽度Eg<2ev(电子伏特),则称为窄禁带半导体,如锗(Ge)、硅(Si)、砷化镓(GaA s)以及磷化铟(InP);若禁带宽度Eg>2.0~6.0ev,则称为宽禁带半导体,如碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、4H碳化硅(4H-SiC)、6H碳化硅(6H-SiC)、氮化铝(AIN)以及氮化镓铝(ALGaN)等.
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Wide Bandgap Semiconductor Technology |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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