用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜 |
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引用本文: | 蔡长龙,李宸章.用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜[J].光学仪器,1999,21(4):34-38. |
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作者姓名: | 蔡长龙 李宸章 |
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作者单位: | [1]西安工业学院仪器工程系 [2]西安西北光电仪器厂 |
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摘 要: | 介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍络铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术氙镀制的镍络铁合金膜进行了性能测试。结果表明:选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层尬发与脉冲多弧离子源阴析靶材成分含量误差小±3%,符合实际应用要求。
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关 键 词: | 镍铬铁合金膜 薄膜沉积 离子镀 离子源 |
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