Y—Ba—Cu—O超导薄膜溅射靶材的研制

本文按136;134和123名义配比研制了用于磁控溅射制膜的超导靶材,其中134和136配比的超导靶材增加了Cu和Ba的比例,在烧制过程中增加了BaCuO_2相,使制备出的超导薄膜表面电阻小,136组分要优于134组分、用136组分靶材制备出了高Tc超导薄膜,起始转变温度为94K,零电阻转变温度为86.5K的样品。