| TKX-50高压下结构、力学性质及电子特性的第一性原理研究 |
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| 引用本文： | 宗和厚,张伟斌,李华荣,张蕾.TKX-50高压下结构、力学性质及电子特性的第一性原理研究[J].含能材料,2018,26(1):46-52. |
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| 作者姓名： | 宗和厚 张伟斌 李华荣 张蕾 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院化工材料研究所, 四川 绵阳 621999,中国工程物理研究院化工材料研究所, 四川 绵阳 621999,中国工程物理研究院化工材料研究所, 四川 绵阳 621999,应用物理与计算数学研究所高性能数值模拟软件中心, 北京 100088 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院发展基金(2015B0302054) |
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| 摘 要： | 采用色散校正密度泛函(DFT-D)方法模拟了1,1'–二羟基-5,5'-联四唑二羟胺盐(T KX-50)晶体在高压下的结构、力学性质及电子特性,得到了T KX-50晶体的弹性常数、体弹模量以及高压下状态方程、能带带隙的演变。用Hirshfeld面及2D指纹图分析了高压下分子间的相互作用的变化规律。模拟的结构与文献报道的实验数据一致。晶格的压缩性存在较大的各向异性,b轴最容易被压缩,三个轴向的可压缩性大小顺序为bca。通过弹性常数计算获得了其常压下的硬度常数大小顺序为C_(33)(61.9 GPa)C_(11)(58.1 GPa)C_(22)(36.9 GPa)。T KX-50的带隙在零压下是直接带隙,在50 GPa及更高压力下为间接带隙,带隙随着压力增加而减小,预示T KX-50可能在压力下撞击感度增大。
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| 关 键 词： | 1 1′–二羟基-5 5′-联四唑二羟胺盐(TKX-50) 第一性原理 力学性质 电子特性 高压 色散校正密度泛函(DFT-D)方法 |
| 收稿时间： | 2017/9/18 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2017/11/14 0:00:00 |
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