| 磁控溅射膜厚均匀性模拟软件的设计 |
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| 引用本文： | 徐新,赵选民,胡松利. 磁控溅射膜厚均匀性模拟软件的设计[J]. 计算机应用与软件, 2006, 23(10) |
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| 作者姓名： | 徐新 赵选民 胡松利 |
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| 作者单位： | 西北工业大学理学院,陕西,西安,710072;西北工业大学理学院,陕西,西安,710072;西北工业大学理学院,陕西,西安,710072 |
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| 摘 要： | 由于薄膜厚度均匀性是影响薄膜性能的一个重要因素,根据平面磁控溅射的实际情况,提出了一个较为全面的磁控溅射薄膜厚度分布模型.该模型综合考虑靶面溅射电流分布、溅射产额与入射角之间的关系、靶面出射粒子的角分布、空间角以及粒子迁移过程中的碰撞等.对建立的模型进行了计算机模拟,并设计出了膜厚分布模拟软件.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 膜厚均匀性 计算机模拟 |
DESIGN OF FILMS THICKNESS UNIFORMITY SOFTWARE OF MAGNETRON SPUTTERING |
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| Xu Xin,Zhao Xuanmin,Hu Songli. DESIGN OF FILMS THICKNESS UNIFORMITY SOFTWARE OF MAGNETRON SPUTTERING[J]. Computer Applications and Software, 2006, 23(10) |
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| Authors: | Xu Xin Zhao Xuanmin Hu Songli |
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