| 金刚石薄膜生长速度研究 |
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| 引用本文： | 王传新,汪建华,满卫东,马志斌,王升高,傅朝坤,李克林,康志成. 金刚石薄膜生长速度研究[J]. 功能材料与器件学报, 2005, 11(4): 427-430 |
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| 作者姓名： | 王传新 汪建华 满卫东 马志斌 王升高 傅朝坤 李克林 康志成 |
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| 作者单位： | 武汉化工学院湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031;武汉化工学院湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;自贡硬质合金有限公司,自贡,643011;中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031 |
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| 基金项目： | 湖北省科技攻关计划项目（No.2002AAl05A02）;湖北省教育厅2004年创新团队项目. |
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| 摘 要： | 在电子辅助热丝CVD中，研究刀具预处理对金刚石薄膜生长速度的影响。在保持生长条件不变的前提下，经酸腐蚀处理的刀具的侧、背面镀铜能使金刚石薄膜的生长速度从没有镀铜时的4μm／h增加到镀铜后的10．6μm／h。镀铜处理提高了刀具的电导率，使得热丝发射的电子在偏压电场的作用下，在刀具表面附近聚集，加速氢气和丙酮的裂解，从而提高金刚石薄膜生长速度。SEM和Raman测试结果表明，高速生长的金刚石薄膜仍然具有很高质量。
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 生长速度 镀铜 硬质合金 |
| 文章编号： | 1007-4252（2005）04-0427-04 |
| 收稿时间： | 2004-03-10 |
| 修稿时间： | 2005-01-24 |
Growth of CVD diamond thin films with high growth rate |
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| WANG Chuan-xin,WANG Jian-hua,MAN Wei-dong,MA Zhi-bin,WANG Sheng-gao,FU Chao-kun,LI Ke-lin,KANG Zhi-cheng. Growth of CVD diamond thin films with high growth rate[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2005, 11(4): 427-430 |
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| Authors: | WANG Chuan-xin WANG Jian-hua MAN Wei-dong MA Zhi-bin WANG Sheng-gao FU Chao-kun LI Ke-lin KANG Zhi-cheng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond film growth rate copper plating cemented carbide |
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