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| ASML的创新之路 | |
| 引用本文： | 王正华.ASML的创新之路[J].中国集成电路,2006,15(6). |
| 作者姓名： | 王正华 |
| 摘 要： | ASML公司是一家重点制造集成电路关键专用制造设备--光刻设备(或称图形曝光设备)的公司.总部位于欧洲荷兰的Veldhoven,成立于1984年,进入新世纪以后,逐步走向世界的前沿.尤其是当它坚持自主创新,推出浸没式光刻系统后,率先将传统的光学光刻系统推进到45纳米节点,在近期内改写了集成电路的规划发展路线,受到产业界广泛的欢迎.公司的经济效益也十分明显.…… |
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