| 磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni—Mn—Ga薄膜的力学性能研究 |
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| 引用本文： | 金岚,李长生,张晔,孙建,李学超. 磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni—Mn—Ga薄膜的力学性能研究[J]. 真空科学与技术学报, 2009, 29(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.02 |
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| 作者姓名： | 金岚 李长生 张晔 孙建 李学超 |
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| 作者单位： | 江苏大学材料科学与工程学院,镇江,212013 |
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| 摘 要： | Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点.而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具有较高的响应频率.为实现磁-力-电的快速转换,本文使用ECR磁控溅射方法在PZT压电陶瓷片上制备出了Ni-Mn-Ga薄膜.并研究了不同溅射功率和热处理条件对薄膜的组织形貌、成分、表面粗糙度及薄膜硬度的影响.SEM断面形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜为柱状生长模式;AFM三维形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜生长致密,表面粗糙度随着溅射功率的增大而增大;Ni-Mn-Ga薄膜的硬度和弹性模量随退火温度的升高而增大.
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| 关 键 词： | 形状记忆合金 薄膜 ECR磁控溅射 |
Microstructures and Mechanical Properties of Ni-Mn-Ga Films Grown by Magnetron Sputtering |
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| Jin Lan,Li Changsheng,Zhang Ye,Sun Jian,Li Xuechao. Microstructures and Mechanical Properties of Ni-Mn-Ga Films Grown by Magnetron Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2009, 29(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.02 |
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| Authors: | Jin Lan Li Changsheng Zhang Ye Sun Jian Li Xuechao |
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| Keywords: | Ni-Mn-Ga |
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