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| 浅论气体压强对金刚石薄膜质量的影响 | |
| 引用本文： | 孙鑫,丁喜峰,王文静.浅论气体压强对金刚石薄膜质量的影响[J].中国新技术新产品,2013(12). |
| 作者姓名： | 孙鑫 丁喜峰 王文静 |
| 作者单位： | 1. 燕山大学理学院实验中心,河北秦皇岛,066004 2. 燕山大学理学院应用物理系,河北秦皇岛,066004 |
| 摘 要： | 以甲烷、氢气做为气源,利用微波等离子气相沉积的方法在硅片上沉积金刚石薄膜。研究了不同压强对金刚石薄膜质量的影响。结果表明当气氛压强为9KPa时可获得高质量的金刚石薄膜。 |
| 关 键 词： | 金刚石(薄膜) MPCVD 气体压强 Raman光谱 |
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