移相掩模技术及其发展前景 |
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作者姓名: | 刘恩荣 |
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作者单位: | 机电部第四十五研究所 |
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摘 要: | 移相掩模技术的出现和在高密度微电子器件研制中的成功应用,是近几年来光学微细加工技术发展的最主要成果。本文在具体介绍移相掩模基本原理、结构工艺改进以及最新应用成果的基础上,展望了光学微细加工技术的发展前景。并指出,在大力研制高性能实用步进曝光设备的同时,重点研究移相掩模或移相光刻技术,已成为迅速改变我国光学微细加工技术落后面貌的必由之路。
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关 键 词: | 光学微细加工 移相掩模 掩模 发展 |
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