首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

解读新版GMP对原料药工艺设备的要求
引用本文:张志峰,黄曙光,何云龙.解读新版GMP对原料药工艺设备的要求[J].机电信息,2015(2).
作者姓名:张志峰  黄曙光  何云龙
作者单位:奥星制药设备 石家庄 有限公司,河北石家庄,050000
摘    要:对典型的原料药设备进行了详细的阐述,并结合新版GMP对无菌原料药工艺设备的特殊要求,为原料药设备的设计、选型提供了借鉴。

关 键 词:原料药  设备  无菌  GMP

Interpretation in Reaching Requirements in 2010 Edition GMP for Equipment for Production of API
Zhang Zhifeng,Huang Shuguang,He Yunlong.Interpretation in Reaching Requirements in 2010 Edition GMP for Equipment for Production of API[J].Mechanical and Electrical Information,2015(2).
Authors:Zhang Zhifeng  Huang Shuguang  He Yunlong
Abstract:
Keywords:API  equipment  sterile  GMP
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号