| 化学沉积参数对CdS薄膜前驱物利用率的影响 |
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| 引用本文： | 王智平,赵静,王克振. 化学沉积参数对CdS薄膜前驱物利用率的影响[J]. 功能材料与器件学报, 2012, 18(1): 75-81 |
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| 作者姓名： | 王智平 赵静 王克振 |
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| 作者单位： | 1. 兰州理工大学材料科学与工程学院,兰州730050;兰州理工大学可再生能源研究院,兰州730050
2. 兰州理工大学材料科学与工程学院,兰州,730050 |
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| 摘 要： | 采用化学水浴法,在醋酸镉、硫脲、氨水、醋酸铵的体系中制备CdS薄膜,设计L2556正交实验,研究了各沉积参数对前驱物利用率的影响.结果表明,随前驱物醋酸镉、硫脲各自浓度的增加,其自身的利用率下降,但另一方的利用率上升.前驱物的利用率随络合剂醋酸铵浓度的增加先增大后减小,随氨水浓度的增加先减小后增大；其利用率随反应条件温...
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| 关 键 词： | 化学水浴沉积(CBD) CdS薄膜 饱和厚度 前驱物利用率 |
Influence of the chemical bath deposition parameters on the utilization of precursors of CdS thin films |
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| WANG Zhi-ping , ZHAO Jing , WANG Ke-zhen. Influence of the chemical bath deposition parameters on the utilization of precursors of CdS thin films[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2012, 18(1): 75-81 |
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| Authors: | WANG Zhi-ping ZHAO Jing WANG Ke-zhen |
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