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磁控溅射法制备掺杂ZnO透明导电薄膜及其研究进展
引用本文:段光申,丁春华,姜宏,汪国庆,王红燕,那聪.磁控溅射法制备掺杂ZnO透明导电薄膜及其研究进展[J].材料导报,2016,30(Z1):235-240.
作者姓名:段光申  丁春华  姜宏  汪国庆  王红燕  那聪
作者单位:海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室, 海口 570228,海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室, 海口 570228,海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室, 海口 570228,海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室, 海口 570228,海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室, 海口 570228,海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室, 海口 570228
基金项目:科技部国家支撑计划(2013BAE03B02);海南省科技厅重大科研专项(ZDZX2013002)
摘    要:磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并在此基础上对掺杂ZnO透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。

关 键 词:磁控溅射  ZnO透明导电薄膜  掺杂

Research Progress on Preparation of Doped ZnO Transparent Conductive Film by Magnetron Sputtering Method
DUAN Guangshen,DING Chunhu,JIANG Hong,WANG Guoqing,WANG Hongyan and NA Cong.Research Progress on Preparation of Doped ZnO Transparent Conductive Film by Magnetron Sputtering Method[J].Materials Review,2016,30(Z1):235-240.
Authors:DUAN Guangshen  DING Chunhu  JIANG Hong  WANG Guoqing  WANG Hongyan and NA Cong
Abstract:
Keywords:magnetron sputtering technique  ZnO transparent conductive thin film  doping
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