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| 分子电镀法制备237Np核靶 | |
| 引用本文： | 罗旭.分子电镀法制备237Np核靶[J].原子能科学技术,2002,36(4):409-412. |
| 作者姓名： | 罗旭 |
| 作者单位： | 中国原子能科学研究院,同位素研究所,北京,102413 |
| 摘 要： | 研究了在异丙醇介质中电沉积制备^237Np核靶的方法，分析了电流、电压、电镀时间、体系中的含水量等因素对沉积率的影响，并给出了^237Np的纯化及不同厚度的核靶的制备程序，成功地将^237Np以2－700μg/cm^2沉积下来。 |
| 关 键 词： | 制备 分子电镀 核靶 沉积率 镎靶 |
| 文章编号： | 1000-6931(2002)04/05-0409-04 |
| 修稿时间： | 2001年8月25日 |
Preparation of 237Np Targets by Molecular Plating |
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| Abstract: | |
| Keywords: | 237Np |
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