| 真空阴极电弧沉积碳氮膜的研究 |
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| 引用本文： | 袁镇海,付志强,邓其森,林松盛,郑健红,戴达煌. 真空阴极电弧沉积碳氮膜的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2001, 21(4): 329-331 |
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| 作者姓名： | 袁镇海 付志强 邓其森 林松盛 郑健红 戴达煌 |
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| 作者单位： | 广州有色金属研究院 |
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| 基金项目： | 广东自然科学基金项目(950734) |
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| 摘 要： | 以氮气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法沉积了CNx膜,并利用金相显微镜、Auger电子谱仪、FTIR及XRD对其进了分析.结果表明真空阴极电弧沉积法可以制备含N量高、具有C≡N键和C-N键并含有晶态C3N4的CNx膜.
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| 关 键 词： | 真空阴极电弧沉积 氮气 CNx膜 |
| 文章编号： | 0253-9748(2001)04-0329-03 |
| 修稿时间： | 2000-08-22 |
Studies of CNx Films Grown by VCAD |
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| Yuan Zhenhai,Fu Zhiqiang,Deng Qisen,Lin Songsheng,Zheng Jianhong,Dai Dahuang. Studies of CNx Films Grown by VCAD[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2001, 21(4): 329-331 |
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| Authors: | Yuan Zhenhai Fu Zhiqiang Deng Qisen Lin Songsheng Zheng Jianhong Dai Dahuang |
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| Keywords: | Vacuum cathodic arc deposition Nitrogen CN x films |
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