| 氧压对脉冲激光沉积Si基ZnO薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 滕晓云,刘彩池,郝秋艳,许贺菊,于威,傅广生. 氧压对脉冲激光沉积Si基ZnO薄膜性能的影响[J]. 稀有金属, 2007, 31(Z1) |
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| 作者姓名： | 滕晓云 刘彩池 郝秋艳 许贺菊 于威 傅广生 |
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| 基金项目： | 河北省自然科学基金;教育部跨世纪优秀人才培养计划 |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积法在Si(111)基片上制备了ZnO薄膜.利用X射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究工作氧压对ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响.研究结果表明,氧压的增大,有助于更多的氧原子进入晶格,有效减少薄膜中的缺陷和应力,使ZnO薄膜结构趋于完整,但是过高的氧压将严重地影响薄膜的沉积速率,加剧衬底Si的氧化,从而使薄膜的结晶质量恶化.所有的ZnO薄膜均显示出较强的紫外发光蜂,并且结晶性与发光特性有很好的一致性.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 氧压 脉冲激光沉积 |
Influences of Oxygen Pressure on the Properties for ZnO Films Deposited on Si Substrate by Pulsed Laser Deposition |
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| Teng Xiaoyun,Liu Caichi,Hao Qiuyan,Xu Heju,Yu Wei,Fu Guangsheng. Influences of Oxygen Pressure on the Properties for ZnO Films Deposited on Si Substrate by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Rare Metals, 2007, 31(Z1) |
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| Authors: | Teng Xiaoyun Liu Caichi Hao Qiuyan Xu Heju Yu Wei Fu Guangsheng |
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