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| PCVD方法沉积TiN的放电光谱研究 | |
| 引用本文： | 何翔,孙奉娄.PCVD方法沉积TiN的放电光谱研究[J].热处理技术与装备,1995(1). |
| 作者姓名： | 何翔 孙奉娄 |
| 作者单位： | 中南民族学院，中南民族学院 武汉 430047，武汉 430047 |
| 摘 要： | 运用发射光谱对等离子体化学气相淀积(PCVD)在钢基片上淀积TiN的研究表明:放电气氛中存在多种类型的粒子,涂层的生长率直接依赖于Ti~+的浓度;而气相TiN的出现将导致产生鳞片状、疏松的涂层,降低TiN涂层的硬度。 |
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