光刻照明系统匀光技术研究 |
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引用本文: | 剡蛟明.光刻照明系统匀光技术研究[J].电子工业专用设备,1994,23(3):45-57. |
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作者姓名: | 剡蛟明 |
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作者单位: | 电子工业部第45研究所 |
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摘 要: | 本文通过对国际上流行的几种光刻照明方式的分析对比,揭示每一方法实现高均匀度照明的实质与规律;提出高均匀照明系统理论光照均匀度的计算方法;并以“均匀器”为重点,论证了各种匀光措施的优越性与存在的问题以及匀光器的优化设计方案;最后为这一技术的进一步发展提出了几点设想。
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关 键 词: | 光刻高均匀度,照明,措施 |
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