首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

氧化铈抛光粉精密分级控制粒度的研究
引用本文:叶红齐,李艳红,周永华,林京福. 氧化铈抛光粉精密分级控制粒度的研究[J]. 中国粉体技术, 2002, 8(5): 5-7
作者姓名:叶红齐  李艳红  周永华  林京福
作者单位:中南大学化学化工学院,湖南,长沙,410083
基金项目:湖南省自然科学基金项目
摘    要:通过粒度分析对日本和国内稀土抛光粉的粒度及其分布进行了比较 ,通过精密分级考察了抛光粉最大颗粒对抛光过程划痕的影响。研究发现 ,控制最大颗粒的粒径 ,可有效地消除抛光的划痕现象。

关 键 词:稀土  抛光粉  粒度
文章编号:1008-5548(2002)05-0005-03
修稿时间:2002-04-01

Size Control for CeO2 Polishing Powders by Accurate Classification
YE Hong qi,ZHOU Yong hua,LI Yanhong,LIN Jing fu. Size Control for CeO2 Polishing Powders by Accurate Classification[J]. China Powder Science and Technology, 2002, 8(5): 5-7
Authors:YE Hong qi  ZHOU Yong hua  LI Yanhong  LIN Jing fu
Abstract:The comparison is made for the size distributions of two CeO 2 polishing powders samples from Japan and our country.The scratch in the polishing process is investigated and it is shown that the polishing scratch is mainly dependent on the coarse particles and can be eliminated by accurate classification.
Keywords:rare earth  polishing powders  particle size
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号